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氧分壓對(duì)反應(yīng)磁控濺射ZrO2薄膜光學(xué)透射率的影響

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氧分壓反應(yīng)磁控濺射 ZrO2薄膜光學(xué)透射率

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從氧空位、表面粗糙度及晶界三方面，討論了氧分壓對(duì)射頻反應(yīng)磁控濺射ZrO2薄膜光學(xué)透射率的影響。結(jié)果表明，隨氧分壓增大，氧空位的減少使單斜相逐漸占優(yōu)，缺氧狀況的改善使薄膜透射率逐漸升高；高氧分壓下，出現(xiàn)顆粒聚集現(xiàn)象，表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集長(zhǎng)大，使薄膜透射率下降。

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2007-07-06 16:40:26

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