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磁控濺射工藝參數對氧化鈦薄膜晶體結構的影響 |
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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
氧化鈦薄膜 非平衡磁控濺射 晶體結構 離子/原子到達比 |
| 資料大?。?/td>
| 82K |
| 所屬學科： |
結構表征 |
| 來源： |
來源網絡 |
| 簡介： |
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用非平衡磁控濺射技術制備氧化鈦薄膜。研究了基體偏壓、沉積溫度、基體性質及濺射功率對薄膜晶體結構的影響。結果表明，到達基體的粒子的能量和離子/原子比是影響氧化鈦薄膜晶體結構的主要因素；而到達基體的離子/原子比是生成完全金紅石結構氧化鈦薄膜的決定性因素。 |
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| 上傳人： |
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| 上傳時間： |
2007-07-06 17:16:39 |
| 下載次數： |
592 |
| 消耗積分： |
2
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