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聚酰亞胺基納米復合薄膜的制備與電性能研究

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本文基于無機材料的高耐電暈性和PI材料的高耐熱和絕緣特性，利用納米技術及合適的工藝制備獲得無機納米顆粒分散均一、性能穩定的復合薄膜。針對電場下材料破壞機理及其性能的提高開展研究。

作者：

查俊偉，范本慧，黨智敏

上傳時間：

2012-02-23 14:33:47

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