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基于聚對羥基苯乙烯的單組份深紫外光致抗蝕劑研究

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所屬學科：

分子表征

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簡介：

傳統的化學增幅型光致抗蝕劑需加入小分子產酸劑，從而影響了其與成膜樹脂的兼容性，在后烘過程中易出現相分離、酸分布不一致等問題，影響分辨率和線邊緣粗糙度。若將產酸劑、阻溶促溶劑和成膜樹脂合成在一個聚合物分子上，組成單組分抗蝕劑，即可極大的改善上述問題。

作者：

劉娟，王力元

上傳時間：

2012-02-27 13:57:38

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