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濺射氣壓對ZrO2薄膜微結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的影響

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ZrO2薄膜磁控濺射濺射氣壓相結(jié)構(gòu) O /Zr

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簡介：

利用射頻反應(yīng)磁控濺射在顯微玻璃、單晶硅片、NaCl和石英上沉積ZrO2薄膜。膜厚60～80nm。研究發(fā)現(xiàn)，濺射氣壓升高，薄膜結(jié)晶程度降低，同時存在單斜相和四方相；晶粒尺寸增大；折射率上升；透射率在700~1000nm波段上升。這些結(jié)果表明濺射氣壓影響ZrO2薄膜生長機(jī)制、微觀結(jié)構(gòu)和成份，進(jìn)而影響其光學(xué)性能。

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2007-07-17 16:31:22

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shisonglin 2009-03-20 2:06:17

hen hao

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