inventor/creator：劉 鵬，譚小耀，于鵬飛，楊晶晶，楊坤
Paten number/application number：ZL201510800323.3
application/authorized announcemen date：2019-1-7
brief introduction：
本發明涉及一種鹽水組分穿越聚偏氟乙烯膜表面納米孔洞的預測方法。具體為先通過VMD構建體系的結構，隨后通過NAMD中Adaptive
biasing force方法分別計算水分子，鈉離子和氯離子穿越納米孔洞的自由能曲線。通過在反應路徑上積分自由能曲線得到穿越速率。通過對自由能曲線的分解結合相應的結構分析得出穿越機理，并對海水淡化膜的結構優化提供理論指導。通過計算水分子，鈉離子和氯離子在不同尺寸孔洞中的穿越速率，得到能用于淡化海水的最大尺寸孔洞。通過對孔洞結構以及修飾基團的更改，得到不同化學環境對該孔洞工作效率的影響。結果表明，使用該方法所得的計算結果準確，且能有效降低設計費用，并顯著提高設計效率。因此，本發明所述的理論方法可用于海水淡化膜的工作效率預測和工作機理的探索