項目類別：國家自然科學基金青年基金項目
項目編號：51303100
項目規模：25萬RMB
參與人員：全體研究生
起止日期：2014/01-2016/12
微納米制造產出了超過 260 億美元的集成電路產品。提高分辨率和降低成本一 直是微納米制造領域的追求目標，而傳統光刻蝕策略已經不能滿足超精細刻蝕技術如亞 10 納米刻蝕水平的要求。本研究旨在揭示新發現的核酸催化金刻蝕規律的基礎上，研究和開發 本質上不同于光刻蝕的納米制造新技術，從而解決納米制造過程中的關鍵核心難題。本研究 首先探索在弱氧化環境下，吡啶基元與貴金屬離子之間的配位過程，研究該配位產物對于貴 金屬氧化還原電位的影響，最終在揭示吡啶催化的氧化刻蝕機理之上，逐步建立一整套利用 含類吡啶基元結構的大分子（生物大分子如 DNA 和合成高分子如聚乙烯基吡啶）來實現貴金 屬材料微納米尺度刻蝕的科學方法。該方法過程簡單，不使用對環境污染嚴重的液、氣體以 及高溫、高腐蝕性條件；力爭實現單分子水平刻蝕，從而滿足亞 10 納米刻蝕要求。本課題 將開拓新的研究領域，并刺激新一代亞 10 納米刻蝕方法發展以適應未來電子和半導體工業 的需要。