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材料參數(shù)誤差對多層ZnOw 吸波涂層優(yōu)化結(jié)果的影響

資料類型：

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關(guān)鍵詞：

多層雷達(dá)吸波材料四針狀氧化鋅晶須誤差分析

資料大小：

265K

所屬學(xué)科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡介：

多層雷達(dá)吸波材料（RAM）的性能與各層材料的電磁參數(shù)及厚度緊密相關(guān)。針對以四針狀氧化鋅晶須（ZnOw）為主要成分的多層RAM結(jié)構(gòu)，在2～18GHz頻率范圍內(nèi)討論了各層材料電磁參數(shù)及厚度誤差對于優(yōu)化結(jié)果的影響，詳細(xì)分析了靠近金屬襯底的介質(zhì)層的材料電磁參數(shù)及厚度誤差對優(yōu)化結(jié)果的影響。

作者：

晁坤，劉運(yùn)林，楊儒貴

上傳時(shí)間：

2008-06-17 13:33:35

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相關(guān)評論 共有1人發(fā)表評論

更多評論

k617551 2010-05-07 10:36:08

理論性很強(qiáng)！

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