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微弧氧化法制備磁性薄膜的研究

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關(guān)鍵詞：

Fe3O4 薄膜磁性能微弧氧化

資料大小：

305K

所屬學(xué)科：

分子表征

來(lái)源：

2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡(jiǎn)介：

采用微弧氧化法以FeSO4溶液在鈦金屬表面制備超順磁性薄膜。用IR、XRD和SEM等表征了磁性薄膜的組成和形貌，結(jié)果表明磁性薄膜主要由Fe3O4和(Fe2O3)x2H2O晶體組成。推斷了磁性薄膜的形成機(jī)理。

作者：

陳志彥，李文芳，彭繼華

上傳時(shí)間：

2008-08-14 17:40:54

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