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| 資料類型： |
PDF文件
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β-FeSi2 濺射氣壓 XRD SEM 橢偏光譜 |
| 資料大小： |
417K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢) |
| 簡介： |
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采用磁控濺射方法，在不同的濺射氣壓（Ar氣0.5～3.0Pa）條件下沉積純金屬Fe到Si(100)襯底上,通過真空退火爐在800℃對樣品進行保溫2h，直接形成了正交的β-FeSi2薄膜，利用X射線衍射（XRD）、掃描電鏡（SEM）、橢偏光譜儀，對不同濺射氣壓下合成的β-FeSi2薄膜的結晶特性、表面形貌及光學性能進行表征，研究了不同濺射氣壓對制備β-FeSi2薄膜的影響。結果表明：在1.5Pa時能形成較好的β-FeSi2薄膜，臨界濺射氣壓在2.0Pa附近，當濺射氣壓低與臨界值時，β-FeSi2薄膜的成核密度較高，且成核密度隨濺射氣壓的增大而降低；當濺射氣壓超過臨界值以后，β-FeSi2薄膜的成核密度基本不變；薄膜的折射率n隨壓強的增大而增大，消光系數k隨壓強的增大而減小。 |
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| 作者： |
曾武賢，謝 泉，梁 艷，張晉敏，肖清泉，楊吟野，任學勇
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| 上傳時間： |
2008-09-08 14:38:45 |
| 下載次數： |
32 |
| 消耗積分： |
2
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