�п�Ժ�L���������l��Ƕ�ι����������M�b�о��C��
2016-06-28 ��Դ���п�Ժ���B�h���߷��Ӳ������c�����
���գ��Ї��ƌWԺ�L�����û��W�о������B�h���߷��Ӳ������c����Ҽ������n�}�M���������}��Directed self-assembly of block copolymers on chemical patterns: A platform for nanofabrication �ľC����Progress in Polymer Science�ϰl����Prog. Polym. Sci. 2016, 54�C55, 76�C127����
ԓ�C����Ƕ�ι������ڻ��W�D���������M�b��ԭ�������̺ͼ��g�ֶΣ������ڰ댧�w�ИI�đ����M����ȫ��Ŀ��Y���u��������Ƕ�ι����������M�b��δ���lչǰ���M����չ���������x�߿���ȫ����˽�ԓ�о��I��İlչ��r��
ʹ�û��W�D��(chemical pattern)�����M�b(directed self-assembly��DSA)Ƕ�ι����ﱡĤ����x�����ԫ@���L���������еļ{�Y���������ڹ�̷��õ��ļ{�Y���������M�b�Ƃ�ļ{�Y���������λ�߶Ⱦ��ʡ���߅�ֲڶ�С�ȃ��c��������ͨ�^�����ޏ�������̷��a����ȱ���Լ��ܶȱ�������Q��̷��O�ֱ��ʵ��y�}����������һ��оƬ�ʹ惦ý�w��������x���g֮һ��
ԓ�n�}�M��2011��M���ԁ�һֱ���_չǶ�ι����������M�b������о�������ͨ�^�����OӋ�ϳ�����Ƕ�ι�������о����ڻ��W�D���ϵ������M�b�О飬��Ҫ������1���ߦ�ֵǶ�ι�����ĺϳɼ��������M�b��2����Ƕ�ι�����������M�b��3�����;ۺ������ˢ�ĺϳɡ�
ԓ�n�}�M߀������Chinese Journal of Polymer Science�ϰl�����}��From self-assembled monolayers to chemically patterned brushes: Controlling the orientation of block copolymer domains in films by substrate modification�ľۺ������ˢ����ľC��( 2016, 34, 659-678) ��
�n�}�M�����P�����@�����п�Ժ����Ӌ����������Ȼ�ƌW����ί�ͼ���ʡ�Ƽ��d���Ŀ�Ĵ���֧�֡�
����朽�1
����朽�2
ԓ�C����Ƕ�ι������ڻ��W�D���������M�b��ԭ�������̺ͼ��g�ֶΣ������ڰ댧�w�ИI�đ����M����ȫ��Ŀ��Y���u��������Ƕ�ι����������M�b��δ���lչǰ���M����չ���������x�߿���ȫ����˽�ԓ�о��I��İlչ��r��
ʹ�û��W�D��(chemical pattern)�����M�b(directed self-assembly��DSA)Ƕ�ι����ﱡĤ����x�����ԫ@���L���������еļ{�Y���������ڹ�̷��õ��ļ{�Y���������M�b�Ƃ�ļ{�Y���������λ�߶Ⱦ��ʡ���߅�ֲڶ�С�ȃ��c��������ͨ�^�����ޏ�������̷��a����ȱ���Լ��ܶȱ�������Q��̷��O�ֱ��ʵ��y�}����������һ��оƬ�ʹ惦ý�w��������x���g֮һ��
ԓ�n�}�M��2011��M���ԁ�һֱ���_չǶ�ι����������M�b������о�������ͨ�^�����OӋ�ϳ�����Ƕ�ι�������о����ڻ��W�D���ϵ������M�b�О飬��Ҫ������1���ߦ�ֵǶ�ι�����ĺϳɼ��������M�b��2����Ƕ�ι�����������M�b��3�����;ۺ������ˢ�ĺϳɡ�
ԓ�n�}�M߀������Chinese Journal of Polymer Science�ϰl�����}��From self-assembled monolayers to chemically patterned brushes: Controlling the orientation of block copolymer domains in films by substrate modification�ľۺ������ˢ����ľC��( 2016, 34, 659-678) ��
�n�}�M�����P�����@�����п�Ժ����Ӌ����������Ȼ�ƌW����ί�ͼ���ʡ�Ƽ��d���Ŀ�Ĵ���֧�֡�
����朽�1
����朽�2
Ƕ�ι������ڻ��W�D���ϵ������M�b����
����c��؟�������W퓵ă������Ї��ۺ���W�ռ����W�ϰl������Ϣ�����@�á�Ŀ�����ڂ��f��Ϣ��������������ζ��ٝͬ���^�c���C�����挍�ԣ�Ҳ�������������h���H�ṩ����ƽ�_����������ؓ؟�����漰�֙࣬Ոϵ�҂����r�Ļ�h�����]�䣺[email protected]��δ�����Wͬ�ⲻ��ȫ���D�d��ժ��������������ʽʹ��������Ʒ��
��؟�ξ���xu��
���P��
- �Ĵ���Wţ�G�A����/�����ڈFꠡ�Macromolecules������������x��Һ�wǶ�ι������𤏗�О���x�ӂ�ݔ���� 2025-12-27
- �A��������W���ָ���ڈF� Small���r�g�ֱ�С�� X �侀��ʾ�ۺ��T���ԽM�b��Ƕ�ι������z�������əC�� 2025-09-09
- ����W������ڈF� CEJ�������p���W�j����ϩ-��ϩǶ�ι����� - ���������w��HDPE/iPP��������������� 2025-07-20
- ������ʯ���ڈF���ۿƴ��Ʊ���Ժʿ�Fꠡ�ACS Nano��������Һ�������ӽM�b�о�ȡ�����Mչ 2021-03-10
- ����W����ϼ��������ƿˢǶ�ι�������ԽM�b�о�ȡ�����Mչ 2020-05-06
- �A��������W�����Ͻ��ڣ�����֦�͡�������ӵľ��_�ϳɼ��ԽM�b�о� 2019-09-06