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ZnO∶Ga透明導電膜的低溫制備及特性研究 |
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| 資料類型: |
PDF文件
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| 關鍵詞: |
磁控濺射 ZnO:Ga 光電特性 |
| 資料大小: |
104K |
| 所屬學科: |
性能表征 |
| 來源: |
來源網絡 |
| 簡介: |
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采用射頻磁控濺射法在玻璃襯底上低溫制備出高質量的鎵摻雜氧化鋅(ZnO:Ga)透明導電膜,對薄膜的結構和光電特性以及制備參數對薄膜性能的影響進行了研究。制備的ZnO:Ga是具有六角纖鋅礦結構的多晶薄膜,最佳擇優取向為(002)方向。薄膜的最低電阻率達到了3.910-4Ωcm,方塊電阻~4.6Ω/□,薄膜具有良好的附著性,在可見光區的平均透過率達到90%以上。 |
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| 上傳人: |
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| 上傳時間: |
2007-07-13 14:43:06 |
| 下載次數: |
579 |
| 消耗積分: |
2
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