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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
立方氮化硼薄膜 表面 X射線光電子能譜 |
| 資料大小： |
247K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2004年第五屆中國功能材料及其應用學術會議（9.12-9.16，北京.秦皇島） |
| 簡介： |
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研究立方氮化硼薄膜表面的性質對于研究立方氮化硼薄膜的成核機理和應用，具有重要的價值。本文用XPS對立方氮化硼薄膜表面進行研究，并對有關問題進行了討論。XPS分析表明，立方氮化硼薄膜表面除了B、N外，還含有C和O。從XPS譜圖計算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B為0.90，較接近于氮化硼的理想化學配比1:1；不含立方相的氮化硼薄膜的N/B為0.86，離氮化硼的理想化學配比1:1較遠。計算表明立方氮化硼薄膜的頂層六角相的厚度約為0.8nm。 |
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| 作者： |
鄧金祥 陳浩 陳光華 劉鈞鍇 宋雪梅 朱秀紅 王波 嚴輝
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| 上傳時間： |
2007-07-06 15:58:47 |
| 下載次數： |
617 |
| 消耗積分： |
2
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